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5)反应性溅镀制备吸收膜：在第五真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反应性溅镀制备抗反射膜：在第六真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅，反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层。在本申请的一个实施例中，步骤1)中，靶材为铬靶，氩气流量为50～200sccm，氧气流量为10～200sccm，制得的强化膜的厚度为30～120nm。此外，堆叠过程使用了一种名为转印的技术，这一技术能以高精度三维组装这些微小的设备。上海销售太阳光谱模拟滤光片

1)反应性溅镀制备强化膜：在***真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在吸热体的基材的外表面上形成强化膜；步骤1)中，吸热体的基材为不锈钢片；步骤1)中，靶材为铬靶，功率为9kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为120sccm，氧气流量为80sccm，制得的强化膜的厚度为70nm；膜厚是根据工艺要求可调整的；2)溅镀制备低发射率膜：在第二真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜；浙江AM1太阳光谱模拟销售撞击出来的铬离子与通入的氧气与氮气发生化学反应生成氮氧化铬、氮化铬以及氧化铬。

步骤5)中，靶材为铬靶，功率为11kw，电压为500v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为110sccm，氧气流量为90sccm，制得的吸收膜的厚度为80nm；6)反应性溅镀制备抗反射膜：在第六真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的硅离子与通入的氧气发生化学反应生成二氧化硅，反应生成的二氧化硅沉积在步骤5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层；步骤6)中，靶材为硅靶，功率为6kw，电压为560v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为220sccm，氧气流量为30sccm，制得的抗反射膜的厚度为120nm。

经检测，本实施例1制备的膜层的吸收率为94％，比现有技术中膜层的吸收率提高了3％～9％；本申请制备的膜层的发射率为4％，比现有技术中膜层的发射率降低了3％～12％；膜层的附着力根据标准要求测试，结果为1级；采用本申请制备的膜层的太阳能集热器的热效率为80.4％，比采用现有技术中膜层的太阳能集热器的热效率提高了6％～8.4％。本发明未详尽描述的方法和装置均为现有技术，不再赘述。本文中应用了具体实施例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其**思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸热体的基材的外表面上制得包括6层的膜层。

如图4所示，在本实施例以可行的方式中，***计算模块320例如可以包括：***计算单元321，用于根据尺寸、地理经度区间、地理纬度区间，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像中每个像素对应的地理经度和地理纬度。第二计算单元322，用于根据拍摄日期，计算拍摄日期对应的太阳赤纬角和大气层上界垂直入射时的太阳辐射强度。第三计算单元323，用于根据拍摄时刻和地理经度，计算拍摄时刻的太阳时角。第四计算单元324，用于根据太阳赤纬角、太阳时角和地理纬度，计算拍摄时刻的太阳高度角。撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬。新疆销售太阳光谱模拟滤光片

相互反应生成所需的化合物沉积在基材上，此种溅镀系统称为反应性溅镀。上海销售太阳光谱模拟滤光片

该仪器能够快速显示实时光谱，因此有可能找到具有***多普勒频移的望远镜位置，同时在这些位置记录更长的曝光光谱，提高信噪比。下图所示的铁谱线相隔约5pm，因为这些光谱不是在太阳圆盘的末端拍摄的。太阳自转引起的两条夫琅和费铁线（相对于未移动的氧线）多普勒频移的测量。在左边的图表中，红色和蓝色的线是HF-8989-3光谱仪的实验数据，当时太阳圆盘的图像通过输入光纤移动到光谱仪（从一个边缘到另一个边缘）。每个实验光谱的曝光时间<1秒。上海销售太阳光谱模拟滤光片

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